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28纳米光刻机
28纳米光刻机
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光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

“02专项“为何非要选择28纳米光刻机这么一个数字？
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　　马督工近期出了一期视频，来评价28nm光刻机今年多半无法通过验收的问题。他的主要论点如下：　　目前国产光刻机最好的90 nm，28nm的光刻机今年恐怕是无法通过验收了;　　中国要想做出头，只有靠耐心加努力，这次不能验收最起码可以打击一下浮躁的气氛;　　摩尔定律快要到头了，美国已经没有进一步进步的空间了;　　我们应该让国内的企业用90n......
28nm... 28纳米...
2021-12-07
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