紫外光刻机
紫外光刻机
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该光刻机可广泛用于MEMS和光电子,例如LED生产。它经过特殊设计,方便处理各种非标准基片、例如混合、高频元件和易碎的III-V族材料,包括砷化镓和磷化铟。而且该设备可通过选配升级套件,实现紫外纳米压印光刻。它具有以下亮点:高分辨率掩模对准光刻,特征尺寸优于0.5微米、装配SUSS的单视场显微镜或分视场显微镜,实现快速准确对准、针对厚胶工艺进行优化的高分辨光学系统、可选配通用光学器件,在不同波长间进行快速切换等
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