ASML、尼康和东京电子不会向中国公司提供高端光刻设备。

　　作为美国政府、荷兰和日本之间协议的一部分，ASML、尼康和东京电子将不会向中国公司提供高端光刻设备。

　　根据 华尔街日报，“荷兰将禁止荷兰光刻机制造商ASML Holding NV从 销往中国 至少一些浸入式光刻机，这是公司深紫外光刻生产线中最先进的一种设备。

　　ASML制造世界上所有的极紫外光刻机，这对于生产尖端半导体至关重要。

　　中国可以很容易地绕过先进半导体的出口禁令，就像它多年来所做的那样。获得巨大的光刻机要困难得多，从头开始制造它们几乎是不可能的。此外，每年只有几百台这样的机器被销售，这使得控制它们的目的地变得更加容易。

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　　资料来源：ASML媒体库，©ASML目前尚不清楚这些关键设备中有多少已经出售给中国，以及中国公司已经拥有生产最先进半导体的能力。

　　虽然中国不太可能拥有生产10纳米以下芯片的技术，但它已经在投资新的晶圆厂。目前，只有台湾的台积电可以生产5nm技术。为此，它需要ASML拥有的先进光刻机。

　　美国的平版印刷

　　光刻系统是一种投影系统。光线通过要打印的图案蓝图(称为“遮罩”或“标线”)投射。这个过程将重复100次或更多次，在图案上铺设图案以制作完整的微芯片。

　　这项关键技术 1957年被发现 作者：Jay Lathrop 和 James Nall，来自马里兰州美国陆军钻石军械引信实验室。他们 专利 用于沉积约200微米宽的薄膜金属条以在陶瓷基板上连接分立晶体管的光刻技术。

　　1959年，拉斯罗普加入了德州仪器，纳尔去了仙童半导体。1958年，仙童的工程师制造了首批“步进重复”相机之一，使用光刻技术在单个晶圆上轻松复制和乘法晶体管。

　　在1980年代初期，GCA公司被认为是光刻技术的全球领导者，并被誉为“最热门的高科技公司”之一。他们发明了晶圆步进器(步进和重复相机)，一种类似于幻灯机或摄影放大机的设备，可以进一步减小芯片尺寸。这是第一个超过1微米限制的技术。

　　当时，日本竞争对手尼康和佳能正在迅速追赶，并进行大胆的技术投资。虽然美国的光刻公司在与半导体制造商达成协议之前一直保留资本支出，但日本人与他们携手合作，制定路线图并协调新设备的交付。

　　“没有光刻工具就不可能制造半导体，但唯一剩下的美国生产商正在为生存而挣扎，”克里斯米勒写道。 芯片大战：争夺世界上最关键的技术.

　　1993年，在从政府支持的Sematech财团获得至少6000万美元的资金后， 汉华关闭工厂 在马萨诸塞州，因为它无法与ASML，尼康和佳能竞争。

　　ASML无法满足需求

　　虽然其他光刻制造商可以打印10nm图案，但ASML的 EUV(极紫外线)技术 允许将最小要素的比例降低到该限制以下。这就是为什么他们拥有最先进的光刻机100%的市场。

　　最近 ASML报告 2022财年收入为230亿美元，净收入为60.5亿美元。这家荷兰公司向其客户出售了 317 套新光刻系统和 28 套二手光刻系统。他们预计 2023 财年的净销售额将增长 25%。

　　“对于2023年，ASML预计与2022年相比，净销售额将增长25%以上，毛利率略有改善。我们预计第一季度净销售额在61亿欧元至65亿欧元之间，毛利率在49%至50%之间，“ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示。

　　向中国出口设备的新限制不会损害公司的底线，因为台湾、欧洲和美国的需求将继续增长。

　　中国可能会进行报复

　　芯片制造设备对于中国引领人工智能和量子计算技术的雄心至关重要。

　　虽然中国大公司有可能在国外采购最先进的芯片并建立新系统，但无法在中国大陆设计和制造先进半导体是他们雄心壮志的倒退。

　　中国政府尚未就新的限制发表任何评论，但它可能会做出反应。一种可能性是 贸易限制 关于西方企业。

　　本文最初发表于 每股收益新闻.

　　巴勃罗·瓦莱里奥已经在IT行业工作了25 +年。虽然主要在巴塞罗那工作，但他也曾在美国、意大利、德国、荷兰和丹麦工作。在过去的 10 年里，他一直是电子、通信、移动和智能城市领域多篇出版物的定期撰稿人。他的作品出现在EE Times，IoT Times，InformationWeek，EBN，LightReading，Network Computing和IEEE Spectrum等。Pablo 拥有俄亥俄州立大学电气工程硕士学位。